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拓荆科技股份有限公司

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拓荆科技股份有限公司

拓荆科技股份有限公司成立于2010年4月，是国家高新技术企业，主要从事半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务。公司在北京、上海、海宁、沈阳、美国成立子公司。公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列，拥有自主知识产权，技术指标达到国际同类产品先进水平，公司产品已广泛应用于集成电路晶圆制造，以及TSV封装、光波导、Micro-LED、OLED显示等新技术领域。

上市公司

沈阳市浑南区水家900号

李秋慧

15001331900

工艺工程师

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1、理解、接收相关的PECVD工艺研发需求，并实现工艺； 2、负责工艺数据的收集，整理和统计分析， 提交完备的实验报告和相关技术文档； 3、使用、维护、管理薄膜材料的分析设备和仪器； 4、按项目计划开展工艺实验； 5、根据项目需求，分析工艺难点，制定完备的工艺研发方案； 6、根据制程产品等需求，优化工艺，提升良率及效率； 7、针对客户端出现工艺问题，提出解决方案、提供技术支持并指导他人； 8、跟踪掌握国内外半导体设备市场动态、半导体制备技术的最新状况与发展趋势。

材料，化学，物理，微电子相关专业

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