职位名称
光刻工艺工程师-微纳加工方向
招聘人数
2
任职要求
1.专科及以上学历，微电子、物理学、光学工程、材料工程、化学等相关专业； 2.具有2年以上半导体光刻工艺经验，熟悉微纳加工工艺流程，具备激光直写光刻工艺经验，熟悉紫外曝光机、步进式光刻机或纳米压印设备操作，熟悉大口径激光直写光刻设备操作优先； 3.熟悉光刻工艺中光刻胶特性、折射率匹配、光学临近效应校正（OPC）等关键技术； 4.具备良好的沟通协调能力和团队合作精神，能适应洁净室工作环境； 5.品行端正，工作严谨，能承担较大工作压力、有强烈的事业心和责任感。